Описание материалов:
Specifically developed to meet the demands of aggressive dry plasma systems, Chemraz® 657 perfluoroelastomer's unique formulation provides enhanced plasma resistance and minimal contamination resulting in less downtime and higher wafer processing yields. Recommended primarily for both static and dynamic oxide etch wafer processing applications, Chemraz 657 remains stable at service temperatures up to 280°C (536°F) with excursions to 300°C (572°F).
| Главная Информация | |
|---|
| Характеристики | - Высокая чистота
- Низкая Твердость
- Мягкий
|
| Используется | - Уплотнения
- Клапаны/Детали Клапана
|
| Внешний вид | |
| Формы | |
| Физический | Номинальное значение | Единица измерения | |
|---|
| Удельный вес | 2.03 | g/cm³ | |
| Твердость | Номинальное значение | Единица измерения | |
|---|
| Твердость дюрометра (Shore A) | 85 | | |
| Эластомеры | Номинальное значение | Единица измерения | Метод испытания |
|---|
| Tensile Stress | | | ASTM D412 |
| 50% Strain | 4.45 | MPa | |
| 100% Strain | 9.55 | MPa | |
| Прочность на растяжение (Break) | 15.2 | MPa | ASTM D412 |
| Удлинение при растяжении (Break) | 150 | % | ASTM D412 |
| Комплект сжатия (96°C, 70 hr) | 29 | % | ASTM D395 |
| Тепловой | Номинальное значение | Единица измерения | |
|---|
| Service Temperature | -40 to 280 | °C | |
